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      HiClave?高壓反應釜系統

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      詳細介紹

      標準系統

      HiClave? 系統以模塊化的方式構建。下面描述的組件構成了多功能壓力反應系統的基礎。它們可以根據各種需求情況來進行調整,并在輔助模塊和組件的幫助下進行升級。


      10ml和20ml反應釜

      10ml和 20ml反應釜有一個帶鎖緊螺母的蓋子和一個帶橫檔的中央介質接口。橫檔的中心連接處放置內部溫度控制器,側面通常與介質連接和壓力計相連。

      使用帶有加熱塊的磁力加熱攪拌器對反應器進行回火,并使用磁力攪拌棒進行攪拌。


      50 ml反應釜

      50ml反應釜有一個帶鎖緊螺母和3個接口的蓋子。其中一個接口可以配備磁力攪拌驅動器。攪拌器離心運作。另外兩個接口用于熱控制器和介質供應。如果您更加想使用磁力攪拌而非驅動攪拌,則可以根據需要選擇接口。


      100 至250ml 反應釜

      100 ml 至 250 ml 反應釜有一個法蘭蓋,該法蘭蓋使用膨脹螺釘擰緊,帶有7個接口。其中三個接口已移至蓋子的外側,以便使用。

      中心連接口由磁力攪拌頭占據。反應釜可以用不銹鋼 1.4571 (SS 316Tl) 或哈氏合金制造。


      水合模塊

      VL-HICLAVE-HYDR水合模塊能夠執行完整的水合過程,包括惰性氣體沖洗和反應釜泄漏測試,無需任何人工干預。因此,在反應釜處于受壓期間,高風險區域不必有人在場。惰性氣體被施加到反應釜中,壓力可調節,然后充氣。該沖洗循環可以根據需要多次重復。隨后,使用惰性氣體進行壓力檢查。檢查的持續時間和通過測試的公差可以自由選擇。


      框架

      方形陽極氧化鋁型材,反應釜不銹鋼平臺

      反應釜

      10到250 ml 不銹鋼反應釜(可選哈斯合金),300 bar,300℃,可選  450℃,爆破片

      攪拌器

      帶磁耦合的攪拌器,速度 20至1.500 rpm,扭矩max.20/50 Ncm,包括用于速度控制的模擬接口(反應釜≥50 ml) 或:帶加熱塊和磁力攪拌棒的磁力加熱攪拌(反應釜≤50 ml )

      加熱/冷卻系統

      系統加熱套管/冷卻板(或者冷卻回路),夾套中的工作溫度范圍為40至350℃,加熱功率高達  700W。替代方案:帶加熱塊的磁力加熱攪拌器

      取樣

      手動取樣

      注氣

      通過 MFC 進行壓力調節的反應氣體,包括氣體消耗量測量、旁通閥

      惰化

      惰性氣體壓力調節,通過高壓電磁閥排氣

      重力加量系統

      GraviDos? 高達300bar的高壓計量系統,可選擇/可選高壓泵和天平

      傳感器

      反應器內部溫度、夾套溫度、反應器內部壓力、速度、ATR-FTIR

      自動化

      兩個高壓釜的示例: LabManager? 2 配備以下設備:4 個Pt100溫度測量輸入、4個模擬輸入(電流和電壓)、4個RS232接口(攪拌器、水合模塊)、4個GraviDos? 連接、8個數字輸出  2 個安全溫度控制器HiTec Zang OS、TFT 監視器、不間斷電源和 UPS 管理系統、帶有項目模塊庫和 EasyBatch? 的LabVision? 軟件包。該自動化系統可以監控2個反應釜,可以擴展到 4 個反應釜

      材料

      主要為不銹鋼1.4571,其他為不銹鋼,哈斯合金


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